英特尔宣布已成功安装ASMLTwinscanEXE:5200B光刻机，这是业界首台用于商用芯片生产的High-NAEUV光刻机（采用0.55数值孔径投影光学系统）。该设备已通过验收测试，将专门用于Intel14A（1.4nm）工艺开发，而14A工艺也将成为全球首个在关键层采用High-NAEUV光刻技术的节点，标志着该技术正式从实验阶段迈向量产阶段。这款2023年英特尔购置的设备性能惊艳：分辨率达